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  • 集成电路中的单片电阻器知识
    • 发布时间:2020-03-06 15:15:34
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    集成电路中的单片电阻器知识
    为三端器件,适当连接这三个端,MOS管就变成两真个有源电阻。实际上所节省的面积远不止此,由于多晶硅条的电阻率很难达到100
    Ω/□。这样可以使W/L接近于1且使用较小的直流电流。显然这是不可能的。 1多晶硅电阻
    在集成电路的设计中,电阻器不是主要的器件,却是必不可少的。
    3电容电阻
    为了尽可能强调线性区并抵消体效应,电阻往往以差动方式成对泛起,图3(b)所示的一
    对差动结构的交流电阻。一个平均的平板电阻可以表示为:
    目前,在设计中使用的主要有3种电阻器:多晶硅、MOS管以及电容电阻。这种电阻器主要原理是利用晶体管在一定偏置下的等效电阻。对于n沟道器件,应该尽可能地把源极接到最负的电源电压上,这样可以消除衬底的影响。留意,加到电阻器左边的是差动信号(V1);右边则处于相同电位。假设单位面积的电容为0.2
    pF/mil2,则面积为50 mil2。在设计中,要根据需要灵活运用这3种电阻,使芯片的设计达到最优。这时通过控制栅源之间的电压值就可以得到ΔV为1
    V的线性交流电阻。但是在实际中,因为信号摆动的幅度很小,所以实际上这种电阻可以很好地工作。
    式中:ρ为电阻率;t为薄板厚度;R□=(ρ/t)为薄层电阻率,单位为Ω/□;L/W为长宽比。可以采用级连的方法克服这一题目即将每一级的G,D与上一级的S相连。其阻值取决于时钟频率和电容值。而在集成电路设计中这是十分重要的,固然增加了2个MOS管,但与所减少的面积比拟是可忽略的。此时,VGS=VDS,如图(a),(b)所示。这时可以利用MOS管的开关特性来实现,图中所示。实验证实,在VDS<0.5(VGS-V
    T)时,近似情况是十分良好的。同样p沟道器件源极应该接到最正的电源电压上。
    集成电路中的单片电阻器
    固然可以改进电阻率的线性,但是牺牲了面积增加了复杂度。
    可以看出,假如VDS<(VGS-VT),则ID与VDS之间关系为直线性(假定VGS与VDS无关,由此产生一个等效电阻R=KL/W,K=1/[μ0C0X(VGS-VT)],μ0为载流子的表面迁移率,C0X为栅沟电容密度;K值通常在1
    000~3 00 0Ω/□。其中V1和V2为两个独立的直流电压源,其按照足够高的速率采样,在周期内的变化可忽略不计。
    这种方法可以在面积很小的硅片上得到很大的电阻。
    集成电路中的单片电阻器间隔理想电阻都比较远,在尺度的MOS管工艺中,最理想的无源电阻器是多晶硅条。可以代替多晶硅或扩散电阻,以提供直流电压降,或在小范围内呈线性的小信号交流电阻。经验表明,假如时钟频率足够高,开关和电容的组合就可以当作电阻来使用。一个MOS器件就是一个模拟电阻,与等价的多晶硅或跨三电阻比拟,其尺寸要小得多。多晶硅电阻则是最简朴的。可以看出,电容电阻比多晶硅电阻的面积少了良多。在大多数的情况下,获得小信号电阻所需要的面积比直线性重要得多。不轻易计算正确值。对于电容电阻器,因为其电阻值与电容大小成反比,因此有效的RC时间常数就与电容之比成正比,从而可以用电容和开关电容电阻正确的实现电路中要求的时间常数;而使用有源器件的电阻,可以使电阻尺寸最小。在特定的前提下,按照采样系统理论,可以近似为图所示的电阻。假如用多晶硅,取最大可能值100
    Ω,并取其最小宽度,那么需要900 mil2。
    其中,fc=1/T是信号Φ1和Φ2的频率。当然在开关电容电阻中除了电容面积外还需要两个面积极小的MOS管做开关。根据式(3)可知电容为10 pF。
    在设计中有时要用到交流电阻,这时其直流电流应为零。例如,设电容器为多晶硅多晶硅型,时钟频率100 kHz,要求实现1 MΩ的电阻,求其面积。
    2MOS管电阻
    CMOS集成电路设计中电阻设计方法的研究
    不管多晶硅仍是扩散层,他们的电阻的变化范围都很大,与注入材料中的杂质浓度有关。假如设计不当,会对整个电路有很大的影响,并且会使芯片的面积很大,从而增加本钱。通过计算可得:
    交流电阻还可以采用开关和电容器来实现。因为上述原因,在集成电路中常常使用有源电阻器。这一曲线对n沟道、p沟道增强型器件都合用。
    MOS开关的特性近似为直线,没有直流失调。实际上,MOS工艺在这方面提供了不少利便。当然也可以用扩散条来做薄层电阻,但是因为工艺的不不乱性,通常很轻易受温度和电压的影响,很难精确控制其绝对数值。根据公式
    简朴地把n沟道或p沟道增强性MOS管的栅极接到漏极上就得到了类似MOS晶体管的有源电阻。
    用有源电阻得到大的直流电压需要大的电流,或者远小于1的W/L比值。在设计中要灵活运用这三种不同的方式。寄生效果也十分显著。当然,利用电容实现电阻还有其他的方法,在此不再赘述。
    集成电路中的单片电阻器
    一种电阻模拟方法,称为“并联开关电容结构”。本文集中讨论了怎样在物理层上实现电阻。
    图(a)的MOS晶体管偏置在线性区工作,图2所示为有源电阻跨导曲线ID-VG S的大信号特性。
    其中:K′=μ0C0X。使用开关和电容模拟电阻,可以减轻漏极电流受漏—源电压的影响。可以看出,电阻为非线性的。因为常用的薄层电阻很小,通常多晶硅最大的电阻率为100Ω/□,而设计规则又确定了多晶硅条宽度的最小值,因此高值的电阻需要很大的尺寸,因为芯片面积的限制,实际上是很难实现的。图1所示的有源电阻不能知足此前提,由于这时要求其阻值为无限大。这些电阻器可以与其他的元器件一起使用。
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